Средний европейский производитель MEMS-датчиков планировал выпустить новую линейку промышленных датчиков давления, предназначенных для жестких условий автоматизации на заводах. Новый продукт требовал индивидуальных SOI-ваферов с высоко настроенной толщиной как для слоя устройства, так и для слоя погребенного оксида, чтобы удовлетворить строгие требования по помехозащищенности и работе при высоких температурах. Крупные мировые производители ваферов отказались от этого проекта по двум основным причинам: объем начального пробного заказа был слишком мал для их порогов массового производства, а создание специализированных производственных процессов для сильно индивидуализированных параметров создало бы чрезмерные операционные издержки. Не найдя квалифицированного поставщика через основные каналы, клиент обратился в Lewei за индивидуальными техническими решениями.
Получив полный набор технических спецификаций от клиента, наша внутренняя команда НИОКР завершила проектирование технологической архитектуры всего за одну неделю. Затем мы запланировали точное производство в нашей чистой комнате класса, строго контролируя процессы склеивания ваферов, травления слоев и полировки, чтобы своевременно предоставить сертифицированные образцы SOI-ваферов. Наша инженерная команда также предоставила удаленное техническое руководство, охватывающее характеристику ваферов, настройку процесса изготовления чипов и оптимизацию выхода продукции на протяжении всей фазы прототипирования клиента. Все партии образцов успешно прошли полный комплекс надежностных испытаний клиента, включая термоциклирование, усталость от давления и долгосрочное тестирование электрической стабильности.
